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磁性陰極濺射比普通陰極濺射具有以下優點

關鍵詞 磁控濺射|2011-06-28 16:03:16|基礎知識|來源 中國磨料磨具網
摘要 1．成膜速率提高（電離率高，放電電流大）。2．基體溫升降低。3．磁控濺射的空間局限于靶與基體之間，粒子到達基體的準確度高，不需要的部位沒有。因此真空容器容易清洗，操作方便。4．膜層...
　　1． 成膜速率提高（電離率高，放電電流大）。
　　2． 基體溫升降低。
　　3． 磁控濺射的空間局限于靶與基體之間，粒子到達基體的準確度高，不需要的部位沒有。因此真空容器容易清洗，操作方便。
　　4． 膜層致密，并且與基體結合力強。這是因為磁控濺射產生的靶原子的能量高。

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