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一種磁流變平面拋光裝置

關鍵詞 磁流變 , 拋光 , 磨料|2017-12-04 09:56:17|行業專利|來源 中國磨料磨具網
摘要 申請號:201710662467.6申請日:2017.08.04國家/省市:中國北京(11)公開號:107378651A公開日:2017.11.24主分類號:B24B1/00(20...

申請號: 201710662467.6

申請日: 2017.08.04

國(guo)(guo)家/省市:中國(guo)(guo)北京(jing)(11)

公開號: 107378651A

公開日: 2017.11.24

主(zhu)分(fen)類(lei)號:B24B 1/00(2006.01)

分類號: B24B 1/00(2006.01)

申請人: 北京交通大學; 江西德義半導體科技有限公司

發明人: 李建(jian)勇(yong); 樊文(wen)剛; 曹建(jian)國; 劉月明; 聶蒙; 朱朋哲; 易德福

代理人: 黃曉軍

代理機構:北京市商(shang)泰律師事務所(11255)

申請人地址:北京市海淀(dian)區西直門外上(shang)園村3號


摘要: 本發明提供了一種磁流變平面拋光裝置,涉及超精密加工技術領域,該裝置包括支架,支架頂端設有平臺,平臺上固定有旋轉座,旋轉座上設有拋光盤,旋轉座連接有拋光盤驅動機構;拋光盤的上方設有工件夾持機構,工件夾持機構設有夾盤;平臺的下方設有磁場發生機構的轉盤上以所述轉盤的中心為起點,沿等速螺線均勻設置有若干永磁鐵。本發明將永磁鐵沿等速螺線以磁極方向相反的方式相間排布在轉盤上,在拋光盤、待加工工件和永磁鐵的旋轉復合作用下,使磁流變拋光液形成柔性拋光面,磁流變拋光液中的磨料在脈(mo)沖磁(ci)(ci)場的作(zuo)用下(xia)實時快(kuai)速更新自(zi)銳,提(ti)(ti)高了磁(ci)(ci)流(liu)(liu)變拋(pao)光(guang)效(xiao)率,降低了拋(pao)光(guang)液(ye)(ye)中磨粒的磨損率,延(yan)長了磁(ci)(ci)流(liu)(liu)變拋(pao)光(guang)液(ye)(ye)的使用壽(shou)命,提(ti)(ti)高了拋(pao)光(guang)效(xiao)率和質量。


主權利要求

1.一種磁(ci)流變平面拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)裝置(zhi),其(qi)特(te)征在(zai)于:包(bao)括支架(1),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)支架(1)的(de)(de)頂端設(she)(she)有(you)(you)平臺(tai)(9),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)平臺(tai)(9)上(shang)(shang)固定有(you)(you)旋轉座(zuo)(10),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)旋轉座(zuo)(10)上(shang)(shang)設(she)(she)有(you)(you)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤(pan)(pan)(pan)(3),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)旋轉座(zuo)(10)連接有(you)(you)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤(pan)(pan)(pan)驅動機(ji)構(4);所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤(pan)(pan)(pan)(3)的(de)(de)上(shang)(shang)方(fang)設(she)(she)有(you)(you)工件(jian)夾(jia)持機(ji)構(5),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)工件(jian)夾(jia)持機(ji)構(5)包(bao)括有(you)(you)夾(jia)盤(pan)(pan)(pan)(507),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)夾(jia)盤(pan)(pan)(pan)(507)位于所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤(pan)(pan)(pan)(3)上(shang)(shang)方(fang);所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)平臺(tai)(9)的(de)(de)下(xia)方(fang)設(she)(she)有(you)(you)磁(ci)場發生(sheng)(sheng)機(ji)構(6),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)磁(ci)場發生(sheng)(sheng)機(ji)構(6)包(bao)括有(you)(you)轉盤(pan)(pan)(pan)(7),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)轉盤(pan)(pan)(pan)(7)位于所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)拋(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)盤(pan)(pan)(pan)(3)的(de)(de)下(xia)方(fang),所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)轉盤(pan)(pan)(pan)(7)上(shang)(shang)以所(suo)(suo)(suo)述(shu)(shu)(shu)(shu)轉盤(pan)(pan)(pan)(7)的(de)(de)中心為起(qi)點,沿等速螺(luo)線均勻設(she)(she)置(zhi)有(you)(you)若干永(yong)磁(ci)鐵(8)。

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