在現代科技的推動下，智能手機、平板電腦等顯示設備越來越輕薄、便攜。而實現這些特點的背后，離不開顯示器減薄和技(ji)術(shu)(shu)的(de)支持。顯示(shi)器(qi)的(de)減薄(bo)是(shi)通過(guo)蝕(shi)刻等手段(duan)去(qu)除多余材料，使屏幕(mu)達到(dao)理想(xiang)的(de)厚度；而拋光則(ze)進一(yi)步處理減薄(bo)后的(de)表面，使其光滑如鏡。這兩項技(ji)術(shu)(shu)的(de)緊密配合，可以極大(da)地提升了顯示(shi)設(she)備的(de)視(shi)覺效果。那么，今天就來了解一(yi)下顯示(shi)器(qi)中玻璃基板(ban)的(de)“拋光”。

拋光在不同類型顯示器中的應用

在顯(xian)示器制(zhi)造過程中，玻璃(li)基(ji)板只占原材(cai)料(liao)成(cheng)本比重的6%左右，但卻是最(zui)重要的元件，對顯(xian)示器的性能影響十分(fen)巨大，顯(xian)示器的分(fen)辨率、透(tou)光率、重量及視(shi)角等關鍵指標都與玻璃(li)基(ji)板密切相關。

目前拋(pao)光的(de)具體應用則(ze)主要集中在玻璃基板的(de)表(biao)面(mian)處(chu)理上，尤其是(shi)在減薄步(bu)驟之后，因為最(zui)先進的(de)減薄技術也無(wu)法使玻璃表(biao)面(mian)0凹點，為了(le)使整(zheng)(zheng)版(ban)的(de)良率最(zui)大化，拋(pao)光也就成(cheng)了(le)必須的(de)流(liu)程，它(ta)可以修(xiu)復(fu)在基板減薄過程中出(chu)現或造成(cheng)的(de)一些不良，如(ru)劃傷和(he)凹凸點，改(gai)善玻璃基板的(de)表(biao)面(mian)光潔(jie)度和(he)平整(zheng)(zheng)度，使其光滑如(ru)鏡(jing)。

可(ke)以(yi)說，拋光這一步驟對(dui)顯(xian)(xian)示(shi)器(qi)的(de)最終顯(xian)(xian)示(shi)效果至關重要，因(yin)為任何微小的(de)表(biao)面缺陷都可(ke)能影響液晶(jing)層(ceng)或發光材(cai)料的(de)分布和(he)性能。以(yi)下是拋光在不同類型顯(xian)(xian)示(shi)器(qi)中(zhong)的(de)應(ying)用。

01LCD（液晶顯示器）

在(zai)LCD制造(zao)過程中，玻璃基板在(zai)形成液晶層和彩色濾光片之前，通常(chang)會經過拋(pao)光處理(li)，以確保表面光滑(hua)平整(zheng)，有(you)利于(yu)液晶層的均勻分布和顯(xian)示(shi)效果。

02OLED（有機發光二極管顯示器）

在OLED顯(xian)示(shi)器(qi)的制造中，玻璃基板在沉積有機發光(guang)(guang)材料之(zhi)前，需要(yao)確保(bao)表面平整(zheng)光(guang)(guang)滑(hua)，拋光(guang)(guang)是關鍵步驟之(zhi)一，以避免表面缺陷(xian)影(ying)響發光(guang)(guang)性能。

03MicroLED

在MicroLED顯示(shi)器(qi)的制造(zao)中(zhong)，玻璃基(ji)板的表面平(ping)整度直接影響MicroLED陣列(lie)的排列(lie)和發(fa)光(guang)效果，拋光(guang)處理(li)可以顯著提升顯示(shi)性能。

三種顯示屏的對比

常見拋光工藝

在顯示(shi)器制造(zao)過程(cheng)中，拋(pao)光(guang)工藝是提升玻璃基(ji)板表面(mian)質量的關鍵(jian)步(bu)驟。常用的拋(pao)光(guang)工藝包括研磨拋(pao)光(guang)、化學機械拋(pao)光(guang)（CMP）、旋轉拋(pao)光(guang)、振動拋(pao)光(guang)和離心拋(pao)光(guang)。

01研磨拋光

研磨拋光通過粗磨和精磨的方式，初步去除表面缺陷并實現基本的光滑效果。粗磨會使用粗粒度的研磨劑和磨輪，對玻璃基板進行初步磨削，去除較大的(de)表面不(bu)平(ping)和缺(que)陷。精(jing)(jing)磨(mo)會使用細粒度的(de)研(yan)磨(mo)劑(ji)，進一步研(yan)磨(mo)玻璃表面，減(jian)少粗磨(mo)留下的(de)劃痕和不(bu)平(ping)整。但粗磨(mo)和精(jing)(jing)磨(mo)通常成本較低(di)，但無法達到CMP的(de)高(gao)精(jing)(jing)度效果。

02化學機械拋光（CMP）

CMP結合化(hua)學腐蝕和(he)(he)機(ji)械磨削，通過(guo)化(hua)學拋光(guang)液對材料(liao)表(biao)面進行化(hua)學反應，同時使用拋光(guang)墊進行機(ji)械磨削，能效去除微小缺(que)陷，實(shi)現高度(du)均(jun)勻的表(biao)面，實(shi)現高度(du)均(jun)勻和(he)(he)光(guang)潔的表(biao)面處理(li)，被(bei)廣(guang)泛用于(yu)顯示器制造(zao)中(zhong)玻(bo)璃(li)基板的精細拋光(guang)。

03旋轉拋光

旋(xuan)轉拋(pao)(pao)(pao)光是將玻璃(li)基板固(gu)定(ding)在旋(xuan)轉裝置上，使用旋(xuan)轉拋(pao)(pao)(pao)光墊和(he)拋(pao)(pao)(pao)光液進行拋(pao)(pao)(pao)光處理。該工(gong)藝的(de)特(te)點是可以均勻地施加拋(pao)(pao)(pao)光力，提(ti)高拋(pao)(pao)(pao)光效率和(he)效果。對于大(da)批(pi)量生產，旋(xuan)轉拋(pao)(pao)(pao)光具有(you)一(yi)定(ding)的(de)優(you)勢。

04振動拋光

振動拋光(guang)可以(yi)通過振動裝(zhuang)置使玻璃(li)基(ji)板與(yu)拋光(guang)介質進行相對(dui)運動，實(shi)現表面拋光(guang)，非常適用于(yu)處理復雜形狀和幾何特(te)征的表面。

05離心拋光

離心拋(pao)(pao)光(guang)將(jiang)玻(bo)璃(li)基板和拋(pao)(pao)光(guang)介(jie)質放入離心裝置中，通(tong)過高(gao)速旋轉產生的離心力進行拋(pao)(pao)光(guang)。它能夠實現高(gao)效的表面拋(pao)(pao)光(guang)，因此適用于大(da)批量生產。

總之，需根(gen)據玻璃基板的(de)具體要求和(he)生(sheng)產條(tiao)件，選(xuan)擇合適的(de)拋光工藝，如所需的(de)表面質量、材料(liao)(liao)特性(xing)、材料(liao)(liao)特性(xing)、成(cheng)本考慮等，以確(que)保顯示器的(de)高質量和(he)高性(xing)能。

總結

隨(sui)著智能手機(ji)、平板電腦、筆記本電腦、電視、監(jian)視器(qi)等設(she)備的(de)(de)普及，顯示(shi)器(qi)的(de)(de)需(xu)求(qiu)持續(xu)增長，帶動(dong)了拋光粉市場的(de)(de)擴展。但隨(sui)著顯示(shi)器(qi)技術(shu)的(de)(de)不斷升級，對拋光粉的(de)(de)性能和質量提出(chu)了更高(gao)的(de)(de)要求(qiu)，同時競(jing)爭的(de)(de)加劇(ju)及成本的(de)(de)升高(gao)，也需(xu)要企業需(xu)要持續(xu)投(tou)入研(yan)發，通過技術(shu)創新來提質增效降本，滿足市場需(xu)求(qiu)。