援引俄羅斯塔斯社最新消息，俄羅斯自研的首臺光刻機已經制(zhi)造完成，目前正(zheng)在(zai)進(jin)行測試(shi)。

       俄羅斯聯邦(bang)工業和貿易部(bu)副部(bu)長瓦西里·什帕克（Vasily·Shpak）告訴媒體：“我們(men)制造并組裝了第一臺國產(chan)光刻機，作(zuo)為澤廖諾格勒(le)（莫(mo)斯科衛星城）技術生(sheng)產(chan)線的一部(bu)分，該(gai)設備可確保生(sheng)產(chan)350nm的芯(xin)片！”

       盡管350nm甚(shen)至比現階(jie)段(duan)全球主流成熟制程工藝都(dou)落(luo)后(hou)不(bu)少，但在(zai)俄羅(luo)斯(si)看來(lai)，它仍然能(neng)在(zai)汽車(che)、能(neng)源和(he)電信(xin)等諸多行業中發揮不(bu)小的應用價值。

       值得一(yi)提的(de)是，據(ju)說俄(e)羅(luo)斯的(de)這臺光刻機成本只(zhi)需要500萬(wan)盧布(bu)（當前(qian)約合人(ren)民(min)幣 40萬(wan)），要知道(dao)(dao)目(mu)前(qian)ASML的(de)同類(lei)光刻機動輒幾千萬(wan)甚(shen)至上億人(ren)民(min)幣。如(ru)果該(gai)消息(xi)屬實(shi)的(de)話，表明俄(e)羅(luo)斯在自主發展半導體技術的(de)道(dao)(dao)路上取得了巨大突(tu)破。

       俄羅斯將生產光刻機：2024年350nm，2026年65nm

       此前，俄羅斯政府(fu)啟動了一項國家計劃，計劃到2030年自研出28nm工藝的(de)芯(xin)片，對(dui)盡可能多(duo)的(de)外(wai)國芯(xin)片進行逆(ni)向工程，并培養本土人才從事國產芯(xin)片替(ti)代工作。

       俄羅(luo)斯最(zui)先(xian)進的晶圓廠(chang)只能生產采用65nm制造(zao)技術(shu)的芯(xin)片，而且用的都(dou)是歐美的設(she)備。俄羅(luo)斯科學(xue)院微結構物理研究所副所長尼古拉·奇卡洛表示，作為光刻技術(shu)的知名(ming)企業(ye)，ASML已研發(fa)其EUV光刻系統(tong)近20年，該(gai)技術(shu)已被(bei)證明非常復雜(za)。

       而(er)且，晶(jing)圓設備(bei)不僅(jin)限于光刻(ke)機(ji)。還需要有其他類型的(de)設備(bei)用(yong)于執行(xing)蝕刻(ke)、沉積、光刻(ke)膠(jiao)去除、計量以及檢查操作，此外還有一(yi)些(xie)不太(tai)先進的(de)機(ji)器，例(li)如超(chao)純空氣(qi)和水發(fa)生器，這些(xie)機(ji)器都是來(lai)自(zi)于西方市(shi)場。也就(jiu)是說，即使(shi)俄羅(luo)斯(si)成(cheng)功制造出光刻(ke)機(ji)，仍需要數百臺設備(bei)來(lai)建造一(yi)座現代(dai)化晶(jing)圓廠，而(er)目(mu)前西方已經(jing)徹底切斷了對俄羅(luo)斯(si)的(de)供應(ying)。

       但(dan)無論如何(he)，俄羅斯為(wei)了(le)實現(xian)半導體產業自主可控(kong)，首先(xian)加大了(le)對光刻(ke)機(ji)領(ling)域的投入和(he)支(zhi)持(chi)，盡(jin)管(guan)目前(qian)350nm的工藝并(bing)不先(xian)進，但(dan)對于戰時的俄羅斯已經非常(chang)重要了(le)，特別在意義上。

       其實(shi)，2023年瓦西(xi)里·什(shen)帕克在接(jie)受俄新社(she)采訪時就表(biao)示(shi)，俄羅斯將(jiang)在2024年生產350nm國產光刻(ke)機(ji)，2026年研(yan)制出130nm光刻(ke)機(ji)。

       “很(hen)明顯，如果不(bu)走完全程，就(jiu)不(bu)可能一(yi)(yi)次性制造(zao)出薄拓撲結構的設(she)備(bei)，” 瓦西(xi)里·什帕克表(biao)示：“目前世界上只有兩家公(gong)司(si)擁有這(zhe)種光刻(ke)技(ji)術：荷蘭(lan)的ASML和日本的尼康(kang)，沒有其他公(gong)司(si)能做到這(zhe)一(yi)(yi)點(dian)。”不(bu)過現(xian)在我們已經(jing)踏(ta)上了這(zhe)條道路，不(bu)是在孤軍奮戰，這(zhe)場競賽(sai)已經(jing)開始，他補充道。

       瓦西里·什帕克認為，所有其他微電子器件(jian)，包括微控(kong)制器、電力電子器件(jian)、電信電路(lu)、汽(qi)車電子以及許多(duo)其他器件(jian)，因為技術和(he)成(cheng)本的(de)原因，將(jiang)在未來許多(duo)年內對 65~350nm的(de)工藝保持需求，而且占市(shi)場(chang)的(de)60%。

       俄羅斯工業和貿易部并不覺得沒有掌握更先進的工藝有什么問題，他們認為≤45nm的工藝只對處理器和存儲器有意義，而這些只占10%~15%。這臺光刻機的問世不僅可以使其一定程度擺脫西方制裁，更給予了俄羅斯國內極大的信心，未來將大幅減少對外依賴。
       2016年(nian)首(shou)次研發成(cheng)功以來(lai)，ASML已(yi)向全球客戶賣出了(le)兩(liang)百多臺EUV設備(bei)(bei)，其中臺積電最多，而且該設備(bei)(bei)需要頻(pin)繁維護，如果(guo)沒有ASML的備(bei)(bei)件(jian)，它們很(hen)快就會停止工作。