拋光工(gong)藝主(zhu)要是用來降(jiang)低工(gong)件的表面粗(cu)糙(cao)程度,對金屬工(gong)件進(jin)行選擇拋光工(gong)藝方(fang)(fang)法(fa)(fa)時,根據不同需求可以(yi)選不同的方(fang)(fang)法(fa)(fa),以(yi)下是拋光工(gong)藝常(chang)見(jian)的幾種方(fang)(fang)法(fa)(fa)。
1機械拋光
機械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉體表面,可使用轉臺等輔助工具,表面質量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具,在含有磨料的研(yan)拋(pao)(pao)液中,緊壓在(zai)工(gong)件被加工(gong)表(biao)(biao)面上,作高速旋(xuan)轉運(yun)動。利用(yong)該技(ji)術可以達到Ra0.008μm的表(biao)(biao)面粗糙度,是各種拋(pao)(pao)光方(fang)法(fa)中高的。光學鏡片模具常采用(yong)這種方(fang)法(fa)。
2、化學拋光
化學拋(pao)光(guang)(guang)是(shi)讓材料在(zai)化學介質中表面微觀凸出的(de)部分(fen)較(jiao)凹(ao)部分(fen)優(you)先(xian)溶解,從(cong)而得到平滑面。這種方法的(de)主要優(you)點是(shi)不需復(fu)雜設備,可以拋(pao)光(guang)(guang)形(xing)狀復(fu)雜的(de)工(gong)件,可以同時拋(pao)光(guang)(guang)很(hen)多工(gong)件,效率(lv)高。化學拋(pao)光(guang)(guang)的(de)核心問(wen)題(ti)是(shi)拋(pao)光(guang)(guang)液的(de)配制(zhi)。化學拋(pao)光(guang)(guang)得到的(de)表面粗糙度(du)一(yi)般為數10μm。
3電解拋光
電(dian)解拋光基本原理與化(hua)學拋光相(xiang)同,即靠選擇性的溶(rong)解材料(liao)表面(mian)微小凸(tu)出部分(fen),使表面(mian)光滑(hua)。與化(hua)學拋光相(xiang)比,可以(yi)消(xiao)除陰極反應的影(ying)響,效果(guo)較好(hao)。電(dian)化(hua)學拋光過程分(fen)為兩步:
(1)、宏觀(guan)整平溶解(jie)產物向電(dian)解(jie)液中擴散,材料表(biao)面(mian)幾何粗(cu)糙(cao)下降,Ra>1μm。
(2)、微光平整陽極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。
4超聲波拋光
將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場中,依靠超聲波的振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。超(chao)(chao)聲(sheng)波(bo)加工(gong)宏觀(guan)力小(xiao),不會引起工(gong)件變形,但工(gong)裝制(zhi)作和安裝較困難。超(chao)(chao)聲(sheng)波(bo)加工(gong)可以(yi)與化(hua)學或(huo)電化(hua)學方法結(jie)合。在(zai)溶液(ye)腐(fu)蝕、電解的基礎(chu)上(shang),再施加超(chao)(chao)聲(sheng)波(bo)振動攪拌溶液(ye),使(shi)工(gong)件表(biao)面溶解產物脫離,表(biao)面附近的腐(fu)蝕或(huo)電解質均(jun)勻;超(chao)(chao)聲(sheng)波(bo)在(zai)液(ye)體中的空化(hua)作用還能夠(gou)抑制(zhi)腐(fu)蝕過程,利于表(biao)面光亮化(hua)。
5流體拋光
流體拋光是依靠高速流動的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有:磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動力研磨等。流體動力研磨是由液壓驅動,使攜帶磨粒的液體介質高速往復流過工件表面。介質主要采用在較低壓力下流過性好的特殊化合物(聚合物狀物質)并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。
6磁研磨拋光
磁(ci)研磨(mo)拋光是利用磁(ci)性磨(mo)料在磁(ci)場作(zuo)用下形成磨(mo)料刷,對工(gong)件磨(mo)削加工(gong)。這種方(fang)法加工(gong)效率高,質量好,加工(gong)條(tiao)件容易控(kong)制(zhi),工(gong)作(zuo)條(tiao)件好。采(cai)用合適的磨(mo)料,表面粗糙度可以達(da)到Ra0.1μm。
在塑料模具加(jia)工中(zhong)所(suo)說的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)與其(qi)他行(xing)業中(zhong)所(suo)要(yao)求(qiu)的表面(mian)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)有很大(da)的不同(tong),嚴格來說,模具的拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)應該稱為鏡(jing)面(mian)加(jia)工。它不僅對(dui)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)本(ben)身(shen)有很高的要(yao)求(qiu)并且(qie)對(dui)表面(mian)平整度(du)、光(guang)(guang)(guang)(guang)滑度(du)以及幾(ji)何精準(zhun)度(du)也有很高的標準(zhun)。表面(mian)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)一般只要(yao)求(qiu)獲得光(guang)(guang)(guang)(guang)亮(liang)的表面(mian)即可。鏡(jing)面(mian)加(jia)工的標準(zhun)分(fen)為四級:AO=Ra0.008μm,A1=Ra0.016μm,A3=Ra0.032μm,A4=Ra0.063μm,由于電解(jie)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、流(liu)體拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)等方(fang)法(fa)(fa)很難(nan)精準(zhun)控制零(ling)件的幾(ji)何精準(zhun)度(du),而化(hua)學拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、超聲波拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)、磁研磨(mo)拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)等方(fang)法(fa)(fa)的表面(mian)質量又達不到要(yao)求(qiu),所(suo)以精密模具的鏡(jing)面(mian)加(jia)工還是以機械拋(pao)(pao)光(guang)(guang)(guang)(guang)為主(zhu)。